ltpsとは？スマホを進化させる新世代ディスプレイ技術を徹底解説共起語・同意語・対義語も併せて解説！

この記事を書いた人

高岡智則

年齢：33歳性別：男性職業：Webディレクター（兼ライティング・SNS運用担当）居住地：東京都杉並区・永福町の1LDKマンション出身地：神奈川県川崎市身長：176cm 体系：細身〜普通（最近ちょっとお腹が気になる）血液型：A型誕生日：1992年11月20日最終学歴：明治大学・情報コミュニケーション学部卒通勤：京王井の頭線で渋谷まで（通勤20分）家族構成：一人暮らし、実家には両親と2歳下の妹恋愛事情：独身。彼女は2年いない（本人は「忙しいだけ」と言い張る）

はじめに

現代のスマホやタブレットは画面の美しさと省電力性能がとても重要です。ltpsはそんなニーズを満たすディスプレイ技術のひとつで、高解像度と省電力性を両立しやすくします。この記事では、ltpsが何か、どう作られるのか、そして私たちの暮らしにどう役立つのかを、初心者にもわかりやすい言葉で解説します。

ltpsとは？

ltpsは Low-Temperature Poly-Silicon の略です。液晶ディスプレイの薄い膜（TFT：薄膜トランジスタ）を作るときに使われる材料の一つで、シリコンの移動度を高めることができます。移動度が高いと信号を素早く伝えられるため、画面の表示がスムーズになり、同じ大きさの画面でもより多くの画素を配置できます。

どうしてltpsが大事なのか

スマホの画面は高解像度で色再現が豊かなことが望まれます。LTPSは小さな画素でも正確に信号を通せるため、文字や写真（関連記事：写真ACを三ヵ月やったリアルな感想【写真を投稿するだけで簡単副収入】）がくっきり見え、動画の表示も滑らかになります。さらに、駆動電力を抑えられることから、バッテリーのもちにも良い影響を与えます。

どのように作られるのか（ざっくり解説）

LTPSを作るには、通常よりも低い温度でポリシリコンを結晶化させる技術が必要です。これにより、高い移動度を持つ薄い膜を実現します。製造工程は複雑で、熱処理の温度管理や配線設計が重要です。結果として、同じ大きさのディスプレイでも画素数を増やせ、表示品質を高めることができます。

歴史と現在の動向

LTPSの研究は1990年代後半から進み、2000年代には実用化が進みました。現在はスマホの高性能機だけでなく、一部のノートPCやタブレットのディスプレイにも採用され、曲面ディスプレイや薄型化の可能性を広げています。今後はコスト削減と歩留まりの改善が進むことで、ますます多くの機器でLTPSが使われる見込みです。

LTPSと他の技術の比較

特徴	LTPS	a-Si	IGZO
移動度	高い	低い	中〜高
解像度	高い	低め	中〜高
電力効率	高い	低い	中程度
製造コスト	高い	安い	中程度

利点と欠点

利点: 高い移動度により高解像度を実現、省電力性が向上、薄型・軽量化がしやすい。
欠点: 製造コストが上がること、工程が複雑で歩留まりが難しいことがあります。

よくある質問

Q: LTPSはどのような製品に使われていますか？
A: スマホの高解像度ディスプレイを中心に、一部のノートPCやタブレットにも採用されています。

まとめ

LTPSは、高い移動度と高解像度を両立させる、現代のディスプレイ技術の中でも重要な要素です。省電力性も向上するため、長時間の使用にも向いています。ただし、製造コストが高い点は現実的な課題として残ります。これからのディスプレイ技術の発展を考えるうえで、LTPSは非常に注目すべきキーワードです。

ltpsの同意語

低温ポリシリコン薄膜トランジスタ: LTPSの日本語表現。低温条件で作成されるポリシリコンの薄膜を使った薄膜トランジスタのこと。ディスプレイの高性能駆動に用いられます。
低温ポリシリコン: LTPSの中心的な日本語表現。低温条件で作られるポリシリコンのこと。
低温多結晶シリコン薄膜トランジスタ: LTPSの別表現。薄膜状の多結晶シリコンを用いたトランジスタの技術です。
低温多結晶シリコンTFT: LTPSを指す日本語表現。薄膜トランジスタの一種です。
LTPS TFT: LTPSを指す英語略語。Low-Temperature Poly-Silicon Thin-Film Transistor の略。
LTPS Thin-Film Transistor: LTPSの正式英語名称。低温ポリシリコン薄膜トランジスタを指します。
Low-Temperature Poly-Silicon: LTPSの英語正式名称の前半。低温ポリシリコンの意味。
Low-Temperature Poly-Silicon Thin-Film Transistor: LTPSの英語正式名称全体。低温ポリシリコン薄膜トランジスタを指します。
Low-Temperature Polycrystalline Silicon TFT: LTPSの英語表現の別表現。Polycrystalline Siliconは多結晶シリコンを指します。
Low-Temperature Polycrystalline Silicon Thin-Film Transistor: LTPSの英語表現の別言い方。薄膜トランジスタを低温ポリシリコンで作る技術を指します。
低温ポリシリコン技術: LTPSの技術分野を指す表現。低温条件で作るポリシリコンを用いた薄膜トランジスタ技術全般のこと。
低温ポリシリコン薄膜トランジスタ技術: LTPSの技術名の具体表現。同様に低温条件で薄膜トランジスタを作る技術を指します。
薄膜トランジスタ（LTPS対応）: LTPSで使われる薄膜トランジスタを指す表現。LTPS対応のTFTのこと。
LTPS技術: LTPSの技術分野を指す表現。低温ポリシリコン薄膜トランジスタに関する技術全般を含みます。

ltpsの対義語・反対語

HTPS（High-Temperature Poly-Silicon）: LTPSの対義語として使われる非公式な略語。意味: 高温プロセスで作られるポリシリコンの薄膜トランジスタ。LTPSに比べて移動度や高解像度性能は一般に劣るが、製造コストが低い場合もある。
a-Si（アモルファスシリコン）: LTPSの実務的な対義語として挙げられる材料。意味: アモルファス構造のシリコン。薄膜トランジスタとして使われ、コストは低めだが移動度・表示性能はLTPSより低いことが多い。
低解像度向けTFT: LTPSの高解像度・高性能という特徴に対して、解像度が低い用途向けのTFT技術を指す表現。意味: 表示解像度を重視しない、あるいは低価格を優先する場合に使われる。
低移動度ポリシリコン: LTPSの高いキャリア移動度に対する対比表現。意味: 移動度が低いポリシリコンを用いたTFT。

ltpsの共起語

低温多結晶シリコン: LTPSの正式名称。低温で結晶化させた薄膜トランジスタ用の半導体材料の総称です。
薄膜トランジスタ: LCDやOLEDの画素を制御する微小なスイッチ。LTPSはこのTFTの性能を高めます。
バックプレーン: ディスプレイの画素を並べて制御する回路層。LTPSは高密度・高速度のバックプレーンを実現します。
液晶ディスプレイ: LCD。LTPSバックプレーンを採用することで高解像度や低消費電力が可能になります。
有機ELディスプレイ: OLED。LTPSバックプレーンと組み合わせて高画素密度と高速駆動を実現します。
ガラス基板: LTPS TFTを形成する基板。多くはガラスが使用されます。
ポリシリコン: ポリゴニックなシリコンの総称。LTPSは低温でこのポリシリコンを加工・活性化します。
アモルファスシリコン: 結晶化していないシリコン。LTPSはこれに対して高い移動度を実現します。
電子移動度: 電子がどれだけ速く移動できるかの指標。LTPSは高い移動度を持つことが多く、表示駆動を高速化します。
高画素密度: 1インチあたりの画素数が多い特性。LTPSは小さな画素を密に配置するのに適しています。
製造プロセス: LTPSを実現するための一連の加工工程（薄膜形成、結晶化、パターン形成など）を含みます。
アニール: 熱処理のこと。LTPSでは温度管理が重要で、結晶化を促進する工程に含まれます。
蒸着: 薄膜を基板上に堆積させる方法。LTPSの材料層形成に使われます。
エッチング: 不要な部分を削り、パターンを作る加工。TFT配線の形成に欠かせません。
IGZO: Indium Gallium Zinc Oxide の略。LTPSとは異なるTFT技術で、表示品質の選択肢として並置されることが多いです。
電力効率: 表示時の消費電力を抑える能力。LTPSバックプレーンは効率改善に寄与します。
高速駆動: 高速な信号伝達が可能な特性。高い電子移動度が要因です。

ltpsの関連用語

LTPS: Low-Temperature Polycrystalline Silicon の略。薄膜トランジスタ(backplane)として用いられる半導体材料で、アクティブマトリクスディスプレイの高解像度・高駆動速度を支える核となる技術です。
薄膜トランジスタ（TFT）: ディスプレイの画素を個別に駆動する薄膜半導体トランジスタ。LTPSバックプレーンを含む多くの高解像ディスプレイで使用されます。
アモルファスシリコン（a-Si）: 非結晶のシリコン材料。製造コストは低いが電子移動度が低く、LTPSほど高解像には向きません。
ポリシリコン（Poly-Si）: 多結晶のシリコン。LTPSの前段階となる材料で、結晶化により移動度を高めます。
エキシマレーザーアニーリング（ELA）: エキシマレーザーを用いて局所的に加熱・結晶化を進める技術。LTPSの主要な結晶化手法の一つです。
金属誘起側方結晶化（MILC）: 金属触媒を利用して基板上のシリコンを側方に結晶化させる手法。LTPSを実現する際に用いられる結晶化技術です。
結晶化: 非結晶状態のシリコンを結晶化させ、電子の移動度を向上させる工程。LTPSの要となる処理です。
電子移動度（モビリティ）: キャリア（電子・ホール）の移動のしやすさを表す指標。LTPSはa-Siよりはるかに高い移動度を持ち、高速駆動を可能にします。
アクティブマトリクス（Active Matrix）: 画素を個々に駆動する回路配置。 LTPSバックプレーンを使うことで高解像・高駆動を実現します。
AMOLED（Active Matrix OLED Display）: 有機ELディスプレイの内蔵駆動回路としてアクティブマトリクスを採用した表示方式。LTPSバックプレーンが用いられることが多いです。
IGZO（Indium Gallium Zinc Oxide）: 酸化物半導体を用いるTFT材料。低温製造と高移動度を両立でき、LTPSの代替・補完として使われます。
ガラス基板（Glass substrate）: LTPSディスプレイの標準的な基板材料。熱処理耐性が求められます。
フレキシブル基板（Flexible substrate）: ポリイミドなどの柔軟な基板。高温工程の課題を克服しつつ、曲げ可能なディスプレイの実現を目指す分野です。
フォトリソグラフィ（Photolithography）: 回路パターンを微細に刻む半導体製造の基本技術。LTPSバックプレーンの微細パターン作成に必須です。
薄膜堆積（PVD/CVD）: 薄膜を基板上に堆積する工程群。蒸着法（PVD）や化学気相法（CVD）などを含み、LTPS製造の下地となります。
熱予算（Thermal budget）: 製造工程全体で許容される総熱量。LTPSは高温プロセスを伴うことが多く、熱予算管理が重要です。
画素（Pixel）: ディスプレイの最小表示単位。LTPSバックプレーンで駆動され、デザイン解像度に影響します。
駆動回路（Drive circuitry）: 画素を点灯・消灯させる回路。高密度・高速度を可能にするLTPSの役割の一部です。
パターンニング（Patterning）: 回路・画素の微細パターンを作る工程。 LTPSディスプレイの画素設計に直結します。
バックプレーン（Backplane）: 画素を制御する回路全体を指す基板側の構成。LTPSは高性能バックプレーンの実現に不可欠です。
コストと歩留まり（Cost & Yield）: 製造コストと不良品率のバランス。LTPSは高機能ゆえコストと歩留まりが課題になることがあります。